技術(shù)文章
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在現(xiàn)代工業(yè)中,管道系統(tǒng)扮演著至關(guān)重要的角色,用于輸送各種液體和氣體。然而,管線表面的腐蝕和金屬損失可能會導(dǎo)致泄漏、事故和不必要的維修成本。為了解決這一問題,鈍化管線已經(jīng)成為保護和延長管道壽命的關(guān)鍵步驟。鈍化是通過向金屬表面施加一層防護性涂層或添加化學(xué)物質(zhì)來減少或阻止腐蝕的過程。它可以采取多種形式,包括使用防腐涂料、陰極保護和緩蝕劑。防腐涂料是一種常見的鈍化管線方法。它們通常由聚合物制成,包含有防腐和耐磨特性的化學(xué)物質(zhì)。這些涂料能夠創(chuàng)建一個物理障礙,從而保護金屬表面免受環(huán)境侵蝕...
同位素氣體是指由同位素原子組成的氣體。同位素是指具有相同質(zhì)子數(shù)和不同中子數(shù)的同種元素,因此它們的物理屬性和化學(xué)性質(zhì)可能存在差異。本文將介紹同位素氣體的性質(zhì)及其在科學(xué)研究和工業(yè)領(lǐng)域中的應(yīng)用。一、同位素氣體的性質(zhì)穩(wěn)定性與放射性同位素氣體的穩(wěn)定性取決于其原子核中的中子數(shù)。例如,氫的同位素有三種:氕(H)、氘(D)、氚(T),其中氕是穩(wěn)定的,而氘和氚是放射性的。這種放射性可用于生產(chǎn)能量或作為示蹤劑。質(zhì)量與分子結(jié)構(gòu)同位素原子的質(zhì)量不同,因此由它們組成的分子質(zhì)量也不同。這會影響到氣體的物...
高含量氧分析儀測定的因素主要有以下幾點:1.泄漏。高含量氧分析儀在初次啟用前必須嚴(yán)格檢漏。高含量氧分析儀只有在嚴(yán)密不漏的前提下才能獲得準(zhǔn)確的數(shù)據(jù)結(jié)果。任何連接點,焊點,閥門等處的不嚴(yán)密,將會導(dǎo)致空氣中的氧反滲進入管道及氧分析儀內(nèi)部,從而得出含氧量偏高的結(jié)果。2.污染。在重新使用高含量氧分析儀時,首先須注意在連接氧分析儀的取樣管路時是否漏入空氣,并且必須認(rèn)真將漏入高含量氧分析儀的空氣吹除干凈,盡量不使大量氧氣通過高含量氧分析儀的傳感器以延長傳感器壽命。在管道系統(tǒng)凈化過程中,為縮...
1、分析儀的配套管線應(yīng)確保密封,微小的泄漏都會使環(huán)境空氣中的氧擴散進來,從而使測量數(shù)值偏高。雖然在測量中,樣氣壓力大于環(huán)境壓力,但樣氣中的氧是微量級的,根據(jù)法拉利定律,氧的分壓與其體積含量成正比,大氣中含有約為21%的氧,與以PPM計算濃度的樣氣的氧分壓相差一萬倍左右,因而氣樣中微量氧的分壓遠低于大氣中的氧分壓,當(dāng)出現(xiàn)泄漏時,大氣中的氧便會從泄漏部位迅速擴散進來。還有,取樣管線應(yīng)盡可能短些,接頭盡可能少,要保證接頭及閥門密封良好,管線連接完畢后,應(yīng)做氣密性檢查。氣密性檢查的要...
在線非甲烷總烴分析儀可選配濃度超標(biāo)報警系統(tǒng)在線非甲烷總烴分析儀的工作原理是樣品經(jīng)過濾后,經(jīng)由十通進樣閥,送入色譜柱進行分離,把甲烷與其他碳?xì)浠衔锓蛛x開來,采用FID火焰離子檢測器進行測量。色譜柱可以選用毛細(xì)柱或填充柱。每次測量前,可以通過自動零點校正系統(tǒng)調(diào)零,確保零點穩(wěn)定。儀表配有自動色譜工作軟件,Intel處理器控制儀表運行,實時診斷儀表工作狀態(tài),在大屏幕顯示屏上,可以顯示色譜圖及儀器的各項指標(biāo)。功能特點:1.網(wǎng)絡(luò)數(shù)字信號傳輸2.采樣時間,測量數(shù)據(jù)頻率可設(shè)置3.可定制為防...
PDHID氦離子化氣相色譜儀是一種高靈敏度、高選擇性分析空氣中微量有機物的儀器。采用雙探測器技術(shù),即PD(PhotoionizationDetector)與HID(HeliumIonizationDetector)兩種檢測器相結(jié)合。PD檢測器以紫外光為能量源,將樣品中的有機物分子電離成正離子,然后通過電場加速器傳遞至離子收集極上形成一個電流信號,從而實現(xiàn)對有機物的定量分析;而HID檢測器則利用氦原子激發(fā)樣品中的有機物分子產(chǎn)生碎片離子,然后再次通過電場加速器傳遞至離子收集極上形...
中華人民共和國國家計量檢定規(guī)程國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布微量氧分析儀檢定規(guī)程VerificationRegulationofMicroOxygenAnalyzers本規(guī)程經(jīng)國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局于2010年6月10日批準(zhǔn),并自2010年12月10日起施行。微量氧分析儀檢定規(guī)程1范圍本規(guī)程適用于測量范圍為0~1000vmol/mol微量氧分析儀的檢定、后續(xù)檢定和使用中的檢驗。2概述微量氧分析儀(以下簡稱儀器)主要用于化學(xué)、冶金、電子工業(yè)等領(lǐng)域中生產(chǎn)和應(yīng)用的氣體中微量氧含量的...
概覽SilcoNert®2000是非晶硅的化學(xué)保護屏障,其進一步官能化以提供可用的最惰性表面。通過應(yīng)用化學(xué)氣相沉積(CVD),SilcoNert®2000非常適用于硫化物,汞,氨或其他活性化合物的痕量級測試精度(特色與優(yōu)勢?非視距工藝;所有孔和復(fù)雜的幾何形狀都能被涂層?消除吸附和再測試?獲得更快的校準(zhǔn)?對結(jié)果充滿信心SilcoNert®2000規(guī)格基板兼容性*:SS合金,陶瓷,玻璃,鈦及大多數(shù)特殊金屬,TIG/MIG焊接、真空鎳釬焊區(qū)域允許溫度范圍*:...
概述Dursan®是一種提供化學(xué)防護屏障的含硅、氧和碳的非晶涂層,并且作了進一步功能化以減少對腐蝕性、反應(yīng)活性和其它不利分子的吸附。以化學(xué)氣相沉積(CVD)法制成的Dursan®涂層,是應(yīng)用中需要穩(wěn)定且化學(xué)惰性表面時的選擇。主要應(yīng)用和優(yōu)勢?以低成本達到類似稀有合金的抗腐蝕性能?提高系統(tǒng)耐用性?提高儀器精度和響應(yīng)時間?防粘易釋,易于清潔的表面Dursan®性能指標(biāo)沉積工藝:功能化硅膠樣涂層(a-SiOX:CHY)涂層結(jié)構(gòu):熱化學(xué)氣相沉積(非等離子體增強)...
本資料全面介紹了SilcoTek®公司和其研發(fā)的涂層技術(shù)以及這些技術(shù)所能解決的關(guān)鍵問題。1985年,PaulSilvis在一家由小學(xué)改造成的企業(yè)孵化基地的一個房間里開設(shè)了一家色譜公司Restek®。1987年,Restek®發(fā)明了最初的SilcoSteel®涂層技術(shù),使分析儀器金屬表面具有玻璃一樣惰性。1993年,Restek®涂層研發(fā)團隊開發(fā)了一種處理其它分析部件(如閥門、接頭等)的方法。1998年,Restek®榮獲多項表面...